鍍層陰暗多數出現在低電流密度區，偶爾也有出現在中電流密度區或高電流密度區。

　　低電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液溫度太高，電流密度太小，主鹽濃度太低；

　　次級光亮劑過多或鍍液中有銅、鋅雜質引起的；中電流密度區鍍層陰暗可能是由次級光亮劑太少，有機雜質過多或有一定量的鐵雜質造成的；

　　高電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液pH太高，初級光亮劑太少或鍍液中有少量的鉻酸鹽、磷酸鹽及鉛雜質引起的。

　　此外，鍍前處理不良，鍍件表面有堿膜或有機物吸附膜，或者底鍍層不好也會導致鎳層出現陰暗的現象。

　　分析這類故障，可以取鍍鎳液先做赫爾槽試驗，假使多次試驗，赫爾槽的陰極樣板上鍍層狀況良好，沒有出現陰暗的現象，

　　那么電鍍時出現的故障，可能是鍍前處理不良或底鍍層不好造成的，應該認真檢查電鍍前的情況。

　　若赫爾槽試驗所得的陰極樣板上出現低電流密度區鍍層陰暗，則可以根據前面提到的可能原因進行分析。

　　中、高電流密度區鍍層陰暗，也可用類似的方法進行試驗，這里不再贅述。